新技术创新,不要EUV光刻机也可生产先进芯片!ASML危险了

大家都知道,ASML在全球半导体领域的地位是非常高的。主要是芯片的代工生产都相当的依赖ASML的光刻机,尤其是在生产更为先进工艺制程芯片的时候,对于ASML的EUV光刻机更为的依赖。毕竟,这种光刻机只有目前的ASML才能够生产。
 
 
而在这种情况下,ASML的地位就处于一个其他企业暂时不能撼动的地位。不过,全球的半导体内也并没有想一直保持现状,不少的企业都在想如何找一个办法不再如此依赖ASML的光刻机。比如说用DUV的光刻机进行多重的曝光,让DUV可以达到7nm工艺制程的生产。
 
不过,这一种解决的办法没有太大的竞争力,因为相当的复杂,而且对于技术的要求也非常的高,同时良品率还非常低,对于晶圆的损耗更大一些。综合上来说,这种成本太高,良品率又低根本没有生产的必要。

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