由 dawei
在半导体工艺进入10nm节点之后，EUV工艺是少不了的，但是EUV光刻机价格高达10亿一台，而且产量有限，导致芯片生产成本很高。日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺，可以不使用EUV光刻机，工艺直达5nm。
据据日媒报导，铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，铠侠已掌握15nm量产技术，目前正在进行15nm以下技术研发，预计2025年达成。
与目前已实用化的极紫外光(EUV)半导体制程细微化技术相比，NIL更加减少耗能且大幅降低设备成本。
因NIL的微影制程较单纯，耗电量可压低至EUV生产方式的10%，并让设备投资降低至40%。
而EUV设备由ASML独家生产供应，不但价格高，且需要许多检测设备配合。
目前NIL在量产上仍有不少问题有待解决，包括更容易因细微尘埃而形成瑕疵等问题。
